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真空鍍膜設備

科技創新為動力 專業服務為目標
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常規配置
? 真空泵系統
低真空泵:旋片式機械泵(蒸壓機械泵:930m3 h-1)
高真空泵:擴散泵(選擇:低溫泵或滑輪分子泵)

? 真空閥系統
型號:3/8”,2”,4”,22“

? 真空室加熱系統
高溫度:0到400℃
型號:滷素燈(選擇:微型加熱器)
基片型號:球面型或行星型
轉速:0到30轉速/分
軟起,軟停,可調速瀘

? 電子控制系統
型號:計算機控制面板
可修改和改變任何需要的控制
全程控制鍍膜以達到產品所需的要求
提供所需要的技術信息

? 真空計系統
高真空感應器:2
低真空感應器:1
選擇配置
? 薄膜沉積控制系統
沉積控制:IC-5 (INFICON)
MDC360 (MAXTEK)等等
石英晶髓感應器:1,2,6頭

? 光控離子源
無柵型:直流型
燈絲型:直流型,頻射型

? 電子束源
容量:15cc,25cc,40cc等等
偏轉角度:180度或270度
坩鍋:4,6,8倜等等

? 深冷系統
除霜室
擴散泵

? 水冷卻系統
水或氣冷卻器
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