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真空鍍膜設備

科技創新為動力 專業服務為目標
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產品概述
       多弧離子鍍膜機是近年新開發的真空離子鍍膜技術,利用真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技術,是先發展起來的真空鍍膜方式,具有沉積速率高快,結合牢固,設備運行穩定等優點,我公司在傳統多弧的基礎上,封靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計,提高了離化率,細化顆粒,膜層和基材結合牢固,膜層更加致密,硬度耐磨性提高,適用于鍍制裝飾膜如:金色的氮化鈦,黑色碳化鈦,七彩的氮氧化鈦等,亦可鍍防腐觸膜(如AL、Cr不銹鋼及TIN等)和耐磨膜。膜層與基底結合牢固,適合于手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很好的發展前景。

技術參數
設備型號 VLT-800型 VLT-1000型 VLT-1200型
鍍膜室尺寸 800×1250 1000×1200 1200×1500
極限真空度 ≤4×10-4pa
抽氣時間 從大氣抽至6.6×10-2Pa<10min
電弧源 6個(2KW/個) 8個(2KW/個) 6個(2KW/個)
直流負偏壓 0-1000V 10A
0-500   20A
0-1000V 12A
0-500   25A
0-1000V 20A
0-500   30A
工件尺寸 6軸(220×800) 6軸(250×1000) 6軸(280×1300)
加熱功率 15KW 20KW 25KW
總功率/平均功率 40KW/25KW 50KW/30KW 58KW/35KW
磁控靶(平面或圓柱靶) 10KW 15KW 20KW
氣體質量流量控制儀 三路 三路 三路

設備特性
       生產同期:生產同期短-270sec/1同期(干燥無大量放氣產品條件)
       鍍膜材料:通用于各種金屬鍍膜(鋁、鎳、銅、鉻……等金屬材料)
       鍍膜方式:金屬濺射鍍膜,膜厚分布均勻
       鍍膜品質:亮度高、附著力強
       鍍膜速度:兩個20Kw大功率磁控制濺射電機,可以調動功率來控制鍍膜速度
       除濕能力:真空室內裝有雩下140度以下的低溫冷凍系統,充分吸收濕氣提高真空到達速度
       運營費用:濺射電極是自行開發產品,大大提高了靶材的使用效率
       占地面精:在固定位置進行上料和下料只要很小的操作空間
       操作方法:人機界面可以直觀的進行設置和監控,設有管理密碼無關人員無法更改
       售后服務:設有售后服務中心和配件倉庫,可以快速處理使用中的問題

設備原理圖示
       在適當的真空環境下,接通高壓電源,在蒸發源與基片間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區,基片電極上接直流負高壓,從而形成輝光放電陰極,鍍料氣化原子進入此區域與惰性氣體離子及電子發生碰撞,離化后的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面,將蒸發物或其反應物沉積在積片上。

離子鍍膜原理圖
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