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真空鍍膜設備

科技創新為動力 專業服務為目標

磁控濺射鍍膜設備


  真空鍍膜具有以下特點:
  高電阻負。真空鍍膜后的RT量大大減少。鍍鋁前后阻隔性能與老化2、15和CPP的比較
  在軟包裝中,使用較廣的鍍鋁膜是PM和CPP滲鋁膜,分為普通真空鍍鋁膜和增強滲鋁膜兩種。
  普通真空滲鋁膜是一種在高真空狀態下將蒸氣沉淀并堆積在基膜上的薄膜。滲鋁層厚度一般在3邊左右(如某企業標推要求,鍍鋁層厚度為350Ai8%)。8%)。真空滲鋁膜不但具有原基膜的力學性能,而且具有較強的裝飾性和較好的阻隔性。
  滲鋁后的蒸汽和氧氣透過率和透光率大大降低,可用作較好的阻隔材料。

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